針對實驗室常見的非自耗（紐扣爐）或小型自耗爐，標準操作分為四個關鍵階段：

1.裝料與密封

‌坩堝清理‌：使用石墨鏟或?qū)Ｓ霉ぞ咔謇硭溷~坩堝內(nèi)的殘留渣殼，確保接觸面清潔。

‌精準投料‌：將烘干后的金屬原料（如海綿鈦、合金塊）放入坩堝凹槽中。若使用鎢電極，需調(diào)整電極尖端與物料表面的距離至‌1-2mm‌（起弧最佳距離）。

‌密封爐體‌：降下爐蓋，確認密封圈無裂紋且位置正確，鎖緊固定螺栓，確保爐體氣密性。

2.抽真空與洗氣（關鍵步驟）

這是決定熔煉純度的核心環(huán)節(jié)，切勿省略“洗氣”步驟：

‌初級抽真空‌：開啟機械泵，緩慢打開抽氣閥（避免氣流過大卷起粉末），將爐內(nèi)氣壓抽至5Pa以下。

‌充氬洗氣‌：關閉抽氣閥，向爐內(nèi)充入高純氬氣至微正壓（約-0.05MPa或一個大氣壓），利用惰性氣體置換殘留空氣。

‌循環(huán)操作‌：重復“抽真空-充氬”過程‌2-3次‌，直至真空度達到工藝要求（通常實驗室爐需達到5×10?³Pa甚至更高）。最后一次充氬后，保持爐內(nèi)為氬氣保護氛圍。

3.引弧與熔煉

‌引弧操作‌：啟動高頻引弧電源或接觸式引弧。對于非自耗爐，先讓電極與引弧劑（如小塊海綿鈦）接觸產(chǎn)生電弧，隨即迅速提起電極至‌2-5mm‌高度，形成穩(wěn)定電弧。

‌熔煉控制‌：

‌預熱‌：先用小電流對物料進行預熱，去除表面吸附氣體。

‌主熔煉‌：逐漸增大電流至設定值（如100A-500A，視樣品量而定），利用電弧高溫熔化金屬。觀察熔池狀態(tài)，若熔池清晰活躍、無雜質(zhì)膜漂浮，說明參數(shù)正常；若出現(xiàn)噴濺或黑煙，需立即調(diào)整電極高度或電流。

‌翻面重熔‌：為保證成分均勻，通常需斷電充氬后，利用翻轉(zhuǎn)機構將樣品翻面，重復熔煉‌3-4次‌。

4.冷卻與出爐

‌自然冷卻‌：熔煉結束后，‌嚴禁立即打開爐蓋‌。必須保持氬氣保護，讓樣品在爐內(nèi)自然冷卻至‌50℃-80℃以下‌（手觸爐體不燙）。

‌取件‌：放氣至常壓，打開爐蓋，使用專用夾具取出樣品。若發(fā)現(xiàn)坩堝有粘附，切勿強行敲擊，以免損壞水冷銅坩堝。