產(chǎn)品中心
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產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結(jié)構(gòu),主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺(tái)、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測量、水冷卻及報(bào)警系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。
四靶磁控濺射鍍膜儀帶過渡倉可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
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