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三源高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用于金屬和介電膜,薄膜傳感器的制造,光學(xué)元件,納米與微電子,太陽能電池.

高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜，該儀器可以穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機(jī)物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好

桌面型不銹鋼腔體熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長(zhǎng)成固相薄膜

本產(chǎn)品為專為高真空設(shè)計(jì)的小型高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍

小型溫控蒸發(fā)鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍

近距離有機(jī)物蒸發(fā)鍍膜爐是一種雙加熱區(qū)快速熱處理爐，具有11“外徑的石英管。它是專為PVD或CSS(近距離升華)薄膜涂層3英寸直徑或2“×2“。近距離蒸發(fā)鍍膜爐采用兩組鹵素加熱器(頂部和底部)，zui大加熱速率20ºC/s。兩個(gè)30段精密溫度控制器內(nèi)置，精度為+/-1ºC。包括RS485端口和控制軟件，允許通過PC操作爐子和溫度曲線記錄。它是研究新一代太陽能電池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和鈣