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OLED有機無機蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱以金屬/有機源蒸發(fā)為主體，適用于實驗室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導體膜等

高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜儀應用領域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學元件 ，納米與微電子 ，太陽能電池等

桌面型有機源蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長成固相薄膜。

高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。

多源真空蒸發(fā)鍍膜儀還適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍

小型電動升降樣品臺蒸發(fā)鍍膜儀為桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀，設備安裝有鎢絲籃蒸發(fā)源，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發(fā)溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍