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CY-BD-50ml注液器是數(shù)字型注液器，數(shù)字顯示消除了人為讀數(shù)和計算時產(chǎn)生誤差，且具有體積小、電池壽命長的優(yōu)點，適用于狹小空間和遠離電源的環(huán)境。

適用于普通蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、離子鍍等真空鍍膜厚度測量，特別適合多蒸發(fā)源鍍膜機和多腔室鍍膜機進行膜層監(jiān)控；膜厚監(jiān)控儀的控制和顯示均通過觸摸屏實現(xiàn)，使您能獲取完整的沉積數(shù)據(jù)，包括速率、厚度和鍍膜時間等。

本膜厚監(jiān)控儀適用于真空電阻熱蒸發(fā)、磁控濺射等鍍膜厚度測量，到達設(shè)置厚度自動關(guān)閉擋板；通過液晶顯示使您能連續(xù)獲取完整的沉積數(shù)據(jù)，包括速率、厚度和晶體振蕩頻率。

CY-FDC-S膜厚控制儀適用于電子束鍍膜、磁控濺射、電阻熱蒸發(fā)等各種鍍膜厚度控制場合。與蒸發(fā)源形成閉環(huán)控制，實時控制和顯示完整的鍍膜數(shù)據(jù)，包括功率、速率、厚度和所用時間，可鍍制復雜的光學和金屬多層薄膜，通過觸摸屏控制實現(xiàn)各種操作，較傳統(tǒng)的按鍵操作更為直觀易懂。儀器編程極為方便，總共可設(shè)置8個膜系，每個膜系100層鍍膜層，為您多層鍍膜帶來極大方便。這些功能為您獲取鍍膜工藝提供良好 基礎(chǔ)。 FDC-S膜厚控制儀有以下幾個特殊功能：手動控制；人工終止鍍膜、晶振失效時按當時功率鍍膜、晶振失效時切換晶片繼續(xù)（多晶片探頭）、中斷膜系、兩個源同時預熔、密碼保護等。

CY-ZKXB-A真空吸筆用于在實驗過程中取放平面微小樣件，能夠避免使用鑷子等傳統(tǒng)工具對樣件造成損壞?？膳cCY-VTC-100旋轉(zhuǎn)涂膜機及微型吸盤配套使用。

CY-ZKXB-B真空吸筆用于在實驗過程中取放平面微小樣件，能夠避免使用鑷子等傳統(tǒng)工具對樣件造成損壞?？膳cVTC-100旋轉(zhuǎn)涂膜機及微型吸盤配套使用。