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高真空滑軌爐核心為一套滑道爐，實現(xiàn)加熱及退火的功能，進氣端配有高精度三路質(zhì)量流量計，用以精確控制管內(nèi)氣氛；同時設備配有渦輪分子泵組，能夠快速達到高真空環(huán)境，zui大程度的排除空氣氣氛對實驗的干擾?；罓t由1200℃標準單溫區(qū)管式爐和高精度滑軌組成

1600℃水平閃燒爐可廣泛應用于各類陶瓷材料的閃燒燒結(jié)工藝中，如：固體氧化物燃料電池領域、鐵電熱電陶瓷領域、固態(tài)電解質(zhì)等領域中

RTP快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備，RTP退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，RTP退火爐適用于短時高溫工藝。

桌面RTP快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備，RTP速退火爐核心特點是快速升降溫和溫控，RTP退火爐適用于短時高溫工藝。

RTP快速退火爐是我公司自主研發(fā)的功能*的加熱設備。RTP退火爐采用進口紅外加熱管加熱，造型新穎結(jié)構(gòu)合理，爐體和爐管可以自由滑動，可實現(xiàn)快速升降溫。

鹵素燈RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術(shù)，可實現(xiàn)真正的基底溫度測量，不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補償，溫度控制精準，溫度重復性高，客戶包括國際上許多半導體公司及科研團隊，是半導體制程退火工藝的理想選擇