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PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備鍍膜儀主要用于生長(zhǎng)光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和有機(jī)化合物薄膜材料，尤其適用于生長(zhǎng)高熔點(diǎn)、多元素及含有氣體元素的復(fù)雜層狀超晶格薄膜材料。