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1100℃16通道管式爐針對于高通量樣品燒結,退火和淬火使用,其*高溫度可達1100℃。每個加熱模塊都由獨立的溫控系統(tǒng)控制,每個爐管都是采用真空法蘭密封可對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理
該管式爐可以用于抽真空和通氣氛,所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐,廣泛用于各種反應溫度在1200℃以下的CVD實驗、真空燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。加熱溫區(qū):220mm+220mm;恒溫區(qū):100mm+100mm;爐管直徑:100mm;爐管長度:1000mm;整機功率:2.5KW;多段程序控溫。
1200℃三溫區(qū)管式爐可以用于抽真空和通氣氛,所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐,1200℃三溫區(qū)管式爐廣泛用于各種反應溫度在1200℃以下的CVD實驗、真空燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。加熱溫區(qū):220mm+440mm+220mm;恒溫區(qū):100mm+200mm+100mm;爐管直徑:100mm;爐管長度:1400mm;整機功率:5KW;多段程序控溫。
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