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三溫區(qū)立式管式爐是一種精密的高溫加熱設(shè)備，其核心特點(diǎn)在于能夠在一個(gè)反應(yīng)管（通常是石英管或剛玉管）內(nèi)沿軸向方向獨(dú)立地創(chuàng)建和精確控制三個(gè)不同的溫度區(qū)域。這種設(shè)計(jì)為復(fù)雜的材料制備和熱處理工藝提供了極大的靈活性和均勻性

超聲波霧化單溫區(qū)立式管式爐是一款多功能的合成系統(tǒng)，針對(duì)于合成各種納米結(jié)構(gòu)氧化物以及納米材料的復(fù)合包覆工藝。此款儀器有三個(gè)主要模塊組成：超聲霧化裝置、1200℃單溫區(qū)立式管式爐和靜電收集裝置組成?？蓮V泛應(yīng)用于納米材料制備、電極材料包覆復(fù)合等方面

真空立式淬火管式爐主體為開啟式立式管式爐，爐管上法蘭裝有吊鉤及爐塞，可手動(dòng)松開吊鉤使懸掛的樣品落下；下法蘭與密封的液體容器通過(guò)φ100mm法蘭連接，液體容器內(nèi)可盛裝冰水或者冷油。真空立式淬火爐適合研究材料相變和微結(jié)構(gòu)性能

高真空立式淬火管式爐是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個(gè)密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從最高溫度1200℃環(huán)境到冰水或冷油中，可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能

該款立式流化床管式爐是一款流化床立式CVD系統(tǒng)，專門針對(duì)粉末實(shí)驗(yàn)。立式管式爐儀器采用的PID智能控溫，控溫精度在±1℃。

高溫立式管式爐采用高質(zhì)量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達(dá)1200℃，石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要，可聯(lián)系技術(shù)人員定制更高溫度和更大管徑的配置。立式管式爐默認(rèn)加熱溫區(qū)為單溫區(qū)，也可以根據(jù)客戶需要定制多溫區(qū)加熱。