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產(chǎn)品型號(hào)：CY-EVZ195-I-H-SS廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-11-16訪 問 量：348產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,地礦,能源,建材/家具,鋼鐵/金屬 |
詳情介紹：
本產(chǎn)品為桌面型石英腔體小型蒸發(fā)鍍膜儀，可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍。真空腔體采用高純石英制作，具有便于觀察鍍膜過程，易于清洗的優(yōu)點(diǎn)；配合分子泵組可達(dá)到5x10-4Pa極限真空，能夠有效保證蒸鍍薄膜的純凈度和結(jié)合力。
在電子領(lǐng)域，桌面型石英腔體蒸發(fā)鍍膜儀可用于制備各種電子元件和組件的薄膜。例如，可用于制造集成電路中的金屬化層、電容器中的電極、電阻器中的薄膜電阻等。這些薄膜具有高精度、高均勻性和良好的電性能，對(duì)于提高電子元件的性能和穩(wěn)定性具有重要作用。
在光學(xué)領(lǐng)域，該設(shè)備可用于制備光學(xué)薄膜。光學(xué)薄膜在光學(xué)儀器、光學(xué)通信、光學(xué)存儲(chǔ)等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。通過蒸發(fā)鍍膜技術(shù)，可以制備出具有高透過率、高反射率或特定光學(xué)性質(zhì)的薄膜，如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些薄膜能夠改善光學(xué)系統(tǒng)的性能，提高光學(xué)器件的效率和精度。
產(chǎn)品名稱 | 桌面型石英腔體小型蒸發(fā)鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-EVZ180-I-H-Q | |
樣品臺(tái) | 外形尺寸 | 直徑φ60mm |
轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
至蒸發(fā)源間距 | 60～100mm 連續(xù)可調(diào) | |
熱蒸發(fā)源 | 有機(jī)蒸發(fā)源（石英舟和鎢絲發(fā)熱源） | |
蒸發(fā)電源 | 每個(gè)蒸發(fā)源配一組獨(dú)立電源 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ180mm，高度200mm |
觀察窗口 | 直徑φ60mm | |
腔體材質(zhì) | 高純石英 | |
開啟方式 | 上開啟式 | |
膜厚測(cè)量 | 晶體膜厚測(cè)量?jī)x（也可選膜厚控制儀） | |
真空系統(tǒng) | 前級(jí)泵 | 雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S |
次級(jí)泵 | 渦輪分子泵,氣體抽速600L/S | |
真空測(cè)量 | 復(fù)合真空計(jì)(電離規(guī)+電阻規(guī)) | |
系統(tǒng)真空 | 5×10-4Pa | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級(jí)控制器 | |
其他參數(shù) | 供電電源 | AC220V,50Hz |
整機(jī)尺寸 | 600mm×600mm×750mm | |
整機(jī)功率 | 1200W | |
整機(jī)重量 | 40kg | |
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