離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜

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詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	價(jià)格區(qū)間	5萬(wàn)-10萬(wàn)
產(chǎn)地類(lèi)別	國(guó)產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	地礦,能源,建材/家具,電子/電池,鋼鐵/金屬

簡(jiǎn)單介紹：

離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜

用于制造各種光學(xué)元件上的增透膜、反射膜、濾光膜等。如在鏡片上鍍制增透膜可減少反射光，增加透光率，提高成像質(zhì)量；在激光反射鏡上鍍制高反射率膜，能有效提高激光的反射效率。

在新材料的研發(fā)過(guò)程中，可利用離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀制備各種新型薄膜材料，研究其物理、化學(xué)和光學(xué)等性能，為新材料的開(kāi)發(fā)和應(yīng)用提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)支持。

該儀器可用于研究材料的表面改性、界面特性等表面科學(xué)問(wèn)題。通過(guò)控制鍍膜工藝參數(shù)，制備不同結(jié)構(gòu)和性能的薄膜，深入了解材料表面與薄膜之間的相互作用，為表面工程技術(shù)的發(fā)展提供理論依據(jù)。

技術(shù)參數(shù)：

使用條件	環(huán)境溫度	5℃～40℃
	電源	380V
	功率	≤20KW
	水壓	≤2.5bar
真空室尺寸	蒸發(fā)室尺寸	φ500×H500(㎜)
真空室尺寸	過(guò)渡倉(cāng)庫(kù)	φ280×H300(㎜)
電子槍	新型電子槍1套，6穴坩堝
離子源	考夫曼離子源K08一套
樣品轉(zhuǎn)盤(pán)	樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉(zhuǎn)，也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶(hù)要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃
系統(tǒng)真空度	極限真空	經(jīng)12～24小時(shí)烘烤，連續(xù)抽氣≤5x10-5Pa
	抽氣速率	從大氣開(kāi)始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa
	系統(tǒng)漏率	整機(jī)漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后，測(cè)量真空室真空度≤10Pa
抽真空系統(tǒng)	TY1200分子泵+機(jī)械泵(VRD-30)系統(tǒng)，并設(shè)置旁路抽氣
鍍膜監(jiān)測(cè)	采用TM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測(cè)
鍍膜厚度的不均勻度	≤3%