磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺為我公司研發(fā)的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等

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磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺為我公司研發(fā)的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等。

磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。

設備配有變頻振動的震動型樣品臺，可以將放置在上面的粉末或者顆粒不規(guī)則的翻動，以確保在鍍膜過程中所有的顆粒的表面能包覆上鍍層，避免鍍膜不勻的情況，是專為顆粒型樣品所設計的PVD設備。

磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺技術參數(shù)：

項目		明細
供電電壓		AC220V，50Hz
整機功率		6KW
極限真空度		5x10^-4Pa
載樣臺參數(shù)	尺寸	φ150mm
	振動方式	變頻電機驅(qū)動齒輪
磁控濺射頭參數(shù)	數(shù)量	斜置3個2"磁控濺射頭與垂直方向夾角15°
	冷卻方式	水冷，所需流速10L/min
	水冷機規(guī)格	10L/min流速的循環(huán)水冷機
真空腔體	腔體尺寸	φ300mm X 340mm H
	腔體材料	不銹鋼
	觀察窗口	φ100mm
	開啟方式	上頂開式，便于更換靶材
氣體流量控制器		1路200sccm Ar；
真空泵		配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S
膜厚儀		石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10?
濺射電源		直流電源2臺，500W，適用于制備金屬膜射頻電源1臺，500W，適用于非金屬鍍膜
操作方式		一體機電腦操作
整機尺寸		1090mm X 900mm X 1250mm
整機重量		350kg

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