離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺(tái)直流電源，兩臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。

磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。

本型號(hào)采用靶下置布局，樣品臺(tái)在上方，與靶面高度可通過(guò)程序**可調(diào)，并且可旋轉(zhuǎn)加熱，性能優(yōu)異。

磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價(jià)值：

1. 科研領(lǐng)域——納米光學(xué)薄膜制備

2. 電子行業(yè)——透明導(dǎo)電薄膜（ITO）鍍膜

3. 材料改性——刀具硬質(zhì)涂層（TiN）

4. 教學(xué)演示——磁控濺射原理實(shí)驗(yàn)

離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：