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激光鍍膜儀
簡要描述:

激光鍍膜儀系統(tǒng)由真空腔室(主濺射室、進(jìn)樣室)、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機(jī)控制等各部分組成。激光鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。

  • 產(chǎn)品型號:CY-LDE
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:267

詳細(xì)介紹

品牌CYKY價格區(qū)間1-5萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域建材/家具,電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,汽車及零部件

激光鍍膜儀系統(tǒng)由真空腔室(主濺射室、進(jìn)樣室)、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機(jī)控制等各部分組成。激光鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。

激光鍍膜儀用途:  

激光鍍膜設(shè)備用于生長光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和有機(jī)化合物薄膜材料,適用于生長高熔點、多元素及含有氣體元素的復(fù)雜層狀超晶格薄膜材料。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。  

激光鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù): 

主真空室  

球型結(jié)構(gòu),尺寸? 450mm  

進(jìn)樣室  

圓筒型立式結(jié)構(gòu),尺寸? 150x 150mm  

真空系統(tǒng)配置  

主真空室  

分子泵與機(jī)械泵,閥門  

進(jìn)樣室  

分子泵與機(jī)械泵(與主真空室共用),閥門  

極限壓力  

主真空室  

≦6*10-6Pa(經(jīng)烘烤除氣后)  

進(jìn)樣室  

≦6*10-3Pa(經(jīng)烘烤除氣后)  

恢復(fù)真空時間  

主真空室  

20分鐘可達(dá)到5*10-3Pa(系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣)  

進(jìn)樣室  

20分鐘可達(dá)到5*10-3Pa(系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣)  

旋轉(zhuǎn)靶臺  

靶材*大尺寸約60mm;可一次安裝4塊靶材,可實現(xiàn)公轉(zhuǎn)換靶;每塊靶材可自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分  

 

基片加熱臺  

樣品尺寸  

?51  

運動方式  

基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分  

加熱溫度  

基片加熱zui高溫度800C±1    C,可控可調(diào)  

氣路系統(tǒng)  

質(zhì)量流量控制器1路,充氣閥1路  

可選部件  

激光器裝置  

配相干201激光器  

激光束掃描裝置  

二維掃描機(jī)械平臺,執(zhí)行兩自由度掃描  

計算機(jī)控制系統(tǒng)  

控制的內(nèi)容主要有公轉(zhuǎn)換靶,靶自轉(zhuǎn),樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫、激光束掃描等  

設(shè)備占地面積  

主機(jī)  

1800 * 1800mm2  

電控柜  

700 *700mm2(1個)  

 

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