雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等。與同類設(shè)備相比，這款磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛，切體積小便于操作，是一款實驗室制備薄膜的理想設(shè)備。

產(chǎn)品型號：CY-MSH500- II-DCRF-SS
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-11-17
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產(chǎn)品分類CLASSIFICATION

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詳細介紹

品牌	CYKY	價格區(qū)間	5萬-10萬
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等。與同類設(shè)備相比，這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛，切體積小便于操作，是一款實驗室制備薄膜的理想設(shè)備。

產(chǎn)品特點

1：此款鍍膜儀配置有兩個靶槍：一個靶槍配套的是射頻電源，用于非導電靶材的濺射鍍膜；一個靶槍配套的是直流電源，用于導電材料的濺射鍍膜

2：該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應(yīng)用非常廣泛。

3：該鍍膜儀體積較小，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。

產(chǎn)品參數(shù):

項目		明細
產(chǎn)品型號		CY-MSH500- II-DCRF-SS
供電電壓		AC220V，50Hz
整機功率		4KW
系統(tǒng)真空		≦5×10^-4Pa
樣品臺	外形尺寸	φ140mm
	加熱溫度	≦500℃
	控溫精度	±1℃
	可調(diào)轉(zhuǎn)速	≦20rpm
磁控靶槍	靶材尺寸	直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷卻模式	循環(huán)水冷
	水流大小	不小于10L/Min
真空腔體	腔體尺寸	直徑φ500mm，高度560mm
	腔體材質(zhì)	SUU304不銹鋼
	觀察窗口	直徑φ100mm
	開啟方式	頂開式
氣體控制		1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統(tǒng)		配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S
膜厚測量		可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源		直流電源500W,射頻電源500W
控制系統(tǒng)		CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)
設(shè)備尺寸		600mm × 650mm × 1280mm
設(shè)備重量		350kg

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