雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等

產(chǎn)品型號：CY-MSH300-II-RF?DC-SS
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-11-17
訪問量：260

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詳細介紹

品牌	CYKY	價格區(qū)間	10萬-30萬
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應用領(lǐng)域	電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。與同類設備相比，這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛，且體積小便于操作，是一款實驗室制備薄膜的理想設備。

技術(shù)參數(shù)：

項目	明細
產(chǎn)品型號	CY-MSH300-II-RFDC-SS
供電電壓	AC220V，50Hz
整機功率	3KW
極限真空度	10^-6torr
載樣臺參數(shù)	尺寸	φ140mm
	加熱溫度	*高500℃
	控溫精度	±1℃
	轉(zhuǎn)速	1-20rpm可調(diào)
磁控濺射頭參數(shù)	數(shù)量	2個2"磁控濺射頭
	冷卻方式	水冷，所需流速10L/min
	水冷機規(guī)格	16L/min流速的循環(huán)水冷機
真空腔體	腔體尺寸	φ300mm X 300mm H
	腔體材料	不銹鋼
	觀察窗口	φ100mm
	開啟方式	上頂開式，便于更換靶材
氣體流量控制器	4路分別通N₂，Ar，O₂，空氣；量程均為0-500sccm
真空泵	配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S
膜厚儀	石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?
濺射電源	直流電源一臺，500W，適用于制備金屬膜射頻電源一臺，300W，適用于非金屬鍍膜
操作方式	面板按鈕操作
整機尺寸	1400mm X 750mm X 1300mm
整機重量	300kg

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雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等

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