帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射

產(chǎn)品型號：CY-MSH300P-II-DCRF-SS
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-11-17
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詳細(xì)介紹

品牌	CYKY	價(jià)格區(qū)間	10萬-30萬
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射

磁控鍍膜儀典型應(yīng)用：

• 科研領(lǐng)域：納米材料、薄膜器件、光學(xué)涂層等研究。

• 電子行業(yè)：半導(dǎo)體、傳感器、導(dǎo)電薄膜制備。

• 教學(xué)演示：材料科學(xué)、真空技術(shù)實(shí)驗(yàn)教學(xué)。

• 以下是磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價(jià)值：

帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目		明細(xì)
產(chǎn)品型號		CY-MSH300P-II-DCRF-SS
供電電壓		AC220V，50Hz
整機(jī)功率		3KW
極限真空度		10^-6torr
載樣臺參數(shù)	尺寸	φ140mm
	加熱溫度	*高500℃
	控溫精度	±1℃
	轉(zhuǎn)速	1-20rpm可調(diào)
磁控濺射頭參數(shù)	數(shù)量	2個2"磁控濺射頭
	冷卻方式	水冷，所需流速10L/min
	水冷機(jī)規(guī)格	10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)
真空腔體	腔體尺寸	φ300mm X 300mm H
	腔體材料	不銹鋼
	觀察窗口	φ100mm
	開啟方式	上頂開式，便于更換靶材
氣體流量控制器		2路分別通Ar，N2；量程均為0-100sccm
真空泵		配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S
膜厚儀		石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10?
濺射電源		直流電源一臺，1000W，適用于制備金屬膜射頻電源一臺，500W，適用于非金屬鍍膜
操作方式		面板按鈕操作
整機(jī)尺寸		1400mm X 750mm X 1300mm
整機(jī)重量		300kg

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