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電子束蒸發(fā)鍍膜儀
簡(jiǎn)要描述:

電子束蒸發(fā)鍍膜儀系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)可以廣泛應(yīng)用于制備高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等各種光學(xué)材料薄膜。

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-EB
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2025-11-17
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:421

詳細(xì)介紹

品牌CYKY價(jià)格區(qū)間1-5萬(wàn)
產(chǎn)地類(lèi)別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車(chē)及零部件

電子束蒸發(fā)鍍膜儀系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)可以廣泛應(yīng)用于制備高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等各種光學(xué)材料薄膜。

電子束蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備用途:  

用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等,廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)。  

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)技術(shù)參數(shù):  

結(jié)構(gòu)形式  

真空室采用U型箱體前開(kāi)門(mén),后置抽氣系統(tǒng)  

真空室  

500×500×600mm2  

真空系統(tǒng)配置  

復(fù)合分子泵、機(jī)械泵、閘板閥  

極限壓力  

≤6. 67×10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后);  

恢復(fù)真空時(shí)間  

45分鐘可達(dá)到6. 67×10-4Pa (系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥 氮?dú)夂螅? 

 

電子束  

蒸發(fā)源  

e型電子槍  

陽(yáng)極電壓:6kv、8kv;  

數(shù)量(套)  

1  

坩堝  

水冷式坩堝,四穴設(shè)計(jì),每個(gè)容量11ml  

功率  

0一6 KW可調(diào)  

電阻蒸發(fā)源 (可選)  

電壓  

5、10V  

功率  

電流300A,*大輸出功率3KW  

數(shù)量  

1套,可切換  

水冷電極  

3根,組成2個(gè)蒸發(fā)舟  

工件架類(lèi)型及尺寸  

基片尺寸:可放置4"基片,加熱zui高溫度800℃±1℃ ,基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分 基片與蒸發(fā)源之間距離300~350mm可調(diào),手動(dòng)控制樣品擋板組件1套  

氣路系統(tǒng)  

200SCCM質(zhì)量流量控制器1路  

石英晶振膜厚控制儀  

監(jiān)測(cè)膜厚顯示范圍:0~99 u 9999A;  

設(shè)備占地面積  

主機(jī)  

900×800mm2  

電控柜  

800×800mm2 (兩個(gè))  

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