產(chǎn)品中心
當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > > 電子束,激光鍍膜儀 > CY-EB電子束蒸發(fā)鍍膜儀


產(chǎn)品型號(hào):CY-EB
廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
更新時(shí)間:2025-11-17
訪(fǎng) 問(wèn) 量:421產(chǎn)品分類(lèi)CLASSIFICATION
詳細(xì)介紹
| 品牌 | CYKY | 價(jià)格區(qū)間 | 1-5萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車(chē)及零部件 |
電子束蒸發(fā)鍍膜儀系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)可以廣泛應(yīng)用于制備高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等各種光學(xué)材料薄膜。
電子束蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備用途:
用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等,廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)。
電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)技術(shù)參數(shù):
結(jié)構(gòu)形式 | 真空室采用U型箱體前開(kāi)門(mén),后置抽氣系統(tǒng) | |
真空室 | 500×500×600mm2 | |
真空系統(tǒng)配置 | 復(fù)合分子泵、機(jī)械泵、閘板閥 | |
極限壓力 | ≤6. 67×10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后); | |
恢復(fù)真空時(shí)間 | 45分鐘可達(dá)到6. 67×10-4Pa (系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥 氮?dú)夂螅? | |
電子束 蒸發(fā)源 | e型電子槍 | 陽(yáng)極電壓:6kv、8kv; |
數(shù)量(套) | 1 | |
坩堝 | 水冷式坩堝,四穴設(shè)計(jì),每個(gè)容量11ml | |
功率 | 0一6 KW可調(diào) | |
電阻蒸發(fā)源 (可選) | 電壓 | 5、10V |
功率 | 電流300A,*大輸出功率3KW | |
數(shù)量 | 1套,可切換 | |
水冷電極 | 3根,組成2個(gè)蒸發(fā)舟 | |
工件架類(lèi)型及尺寸 | 基片尺寸:可放置4"基片,加熱zui高溫度800℃±1℃ ,基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分 基片與蒸發(fā)源之間距離300~350mm可調(diào),手動(dòng)控制樣品擋板組件1套 | |
氣路系統(tǒng) | 200SCCM質(zhì)量流量控制器1路 | |
石英晶振膜厚控制儀 | 監(jiān)測(cè)膜厚顯示范圍:0~99 u 9999A; | |
設(shè)備占地面積 | 主機(jī) | 900×800mm2 |
電控柜 | 800×800mm2 (兩個(gè)) | |
免責(zé)聲明:本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考??赡苡捎诟虏患皶r(shí),會(huì)造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異,請(qǐng)與本公司銷(xiāo)售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,本公司會(huì)不定期*和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請(qǐng)您見(jiàn)諒。
產(chǎn)品咨詢(xún)
掃碼加微信