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電子束蒸發(fā)鍍膜儀
簡(jiǎn)要描述:

該設(shè)備以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備,主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預(yù)處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。電子束蒸發(fā)鍍膜儀不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-EVP500-EB
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-17
  • 訪  問(wèn)  量:327

詳細(xì)介紹

品牌CYKY價(jià)格區(qū)間1-5萬(wàn)
產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車(chē)及零部件

該設(shè)備以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備,主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預(yù)處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。電子束蒸發(fā)鍍膜儀不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

電子束蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備技術(shù)參數(shù):

使用條件  

環(huán)境溫度5℃~40℃   電源:三相380 V,功率:≤20 KW,水壓:≤2.5bar  

真空室尺寸  

蒸發(fā)室尺寸:φ500×H500(㎜)  

電子槍  

新型電子槍1套,6穴坩堝  

樣品轉(zhuǎn)盤(pán)  

樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉(zhuǎn),也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃  

系統(tǒng)真空度  

極限真空  

經(jīng)12~24小時(shí)烘烤,連續(xù)抽氣≤5x10-5Pa  

抽氣速率  

從大氣開(kāi)始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa  

系統(tǒng)漏率  

整機(jī)漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后,測(cè)量真空室真空度≤10Pa  

抽真空系統(tǒng)  

FB1200分子泵+機(jī)械泵(TRP-36)系統(tǒng),并設(shè)置旁路抽氣  

鍍膜監(jiān)測(cè)  

采用SQM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測(cè)  

鍍膜厚度  

鍍膜厚度的不均勻度≤6%  


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