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5L光學(xué)玻璃等離子清洗方案是一種小型化、非破壞性的清洗設(shè)備。100瓦/150瓦 5L等離子清洗機(jī)采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。儀器配有一臺(tái)機(jī)械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時(shí)也能將被等離子反應(yīng)后的污染物通過(guò)真空泵抽走；因此短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被地清洗掉。

300W 5L等離子清洗機(jī)是一種小型化、非破壞性的清洗設(shè)備。300瓦 5L等離子清洗機(jī)采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。儀器配有一臺(tái)機(jī)械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時(shí)也能將被等離子反應(yīng)后的污染物通過(guò)真空泵抽走；因此短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被地清洗掉。

5L真空等離子清洗機(jī)是一種小型化、非破壞性的清洗設(shè)備。5L等離子清洗機(jī) 500W/1000W采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。儀器配有一臺(tái)機(jī)械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時(shí)也能將被等離子反應(yīng)后的污染物通過(guò)真空泵抽走；因此短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被地清洗掉。

10L半導(dǎo)體等離子清洗設(shè)備是一種小型化、非破壞性的清洗設(shè)備。100瓦/150瓦 10L等離子清洗機(jī)采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。儀器配有一臺(tái)機(jī)械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時(shí)也能將被等離子反應(yīng)后的污染物通過(guò)真空泵抽走；因此短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被地清洗掉。

10L半導(dǎo)體等離子清洗設(shè)備是一種小型化、非破壞性的清洗設(shè)備。該等離子清洗機(jī)采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。300瓦 10L等離子清洗機(jī)配有一臺(tái)機(jī)械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時(shí)也能將被等離子反應(yīng)后的污染物通過(guò)真空泵抽走；因此短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被地清洗掉。

10L真空等離子清洗機(jī)是一種小型化、非破壞性的清洗設(shè)備。該等離子清洗機(jī)采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。10L等離子清洗機(jī) 500W/1000W配有一臺(tái)機(jī)械真空泵，在抽真空維持腔體真空度的同時(shí)也能將被等離子反應(yīng)后的污染物通過(guò)真空泵抽走；因此短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被地清洗掉。