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真空等離子清洗機本身是很環(huán)保的設備，不產(chǎn)生任何污染，處理過程也不產(chǎn)生任何污染。等離子清洗機可以與原有生產(chǎn)流水線搭配，實現(xiàn)全自動在線生產(chǎn)，節(jié)約人力成本。

超低溫大氣等離子清洗機利用等離子體的特點,對需要處理的固體材料表面進行清潔、活化、激活，大氣等離子清洗機能夠提高固體材料表面附著力,從而實現(xiàn)改變表面微觀結(jié)構(gòu)、化學性質(zhì)、能量的目的.

光學玻璃等離子清洗機作為重要的材料表面改性方法,可以應用于玻璃光學領域,處理溫度可以低至80℃、50℃以下,低的處理溫度可以確保對樣品表面不造成熱影響。等離子清洗機設備體積小，操作簡單，應用廣泛

45mm旋轉(zhuǎn)噴槍等離子清洗機利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。

300W 2L半導體等離子清洗設備是一種小型化、非破壞性的清洗設備。300瓦 2L等離子清洗機采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。

2L實驗室小型等離子清洗機是一種小型化、非破壞性的清洗設備。該等離子清洗機采用低氣壓激發(fā)等離子體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。