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實驗室小型等離子清洗機帶有數字真空傳感器和顯示器，以及鉸鏈門。適用于各種氣體對2英寸以下晶圓片的納米級有機污染物進行清洗和去除。在高射頻功率下，有機去除率zui高約為10nm /min。緊湊型等離子清洗機是一種較好的單晶基材涂裝前預清潔的工具，可達到較好的涂膜質量。

等離子清洗機去除有機污染物是一種等離子體清洗劑或蝕刻裝置，直徑8.5英寸x 14英寸長石英腔和0 - 80W可變射頻功率。8.5“實驗室等離子清洗機采用空氣、氧氣或氬氣等離子體對基體或晶圓片表面的納米級有機污染物進行清洗和去除。

緊湊型紫外線臭氧清洗機用于清潔所有類型的晶體基板，以低成本實現更好的薄膜質量。此外，紫外線臭氧清洗機是去除和剝離光刻膠、改善表面潤濕性、清潔SEM和TEM樣品、UV聚合物活化、組裝等的理想工具。

實驗室紫外線臭氧清洗機可用于去除石英、硅片、金、鎳、鋁、砷化鎵、氧化鋁等大多數無機基材上的有機污染物，提供了一種高效、精密的清洗方式，也是表面改性的一種非常重要的技術。

大氣低溫等離子清洗機作用到固體樣品表面,不但去除了表面原有的污染物和雜質,而且會產生刻蝕作用,將樣品表面變粗糙,形成許多微細坑洼,增大了樣品的比表面。大氣等離子清洗機可以提高固體表面的潤濕性能。

大氣旋轉等離子清洗機又叫等離子表面處理儀（器），是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。