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雙靶磁控及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜儀
簡(jiǎn)要描述:

雙靶磁控及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜儀包括不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶,蒸發(fā)鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺(tái),真空泵機(jī)組、真空測(cè)量規(guī)管,進(jìn)氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成??捎糜陔娮赢a(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MS500S-2TA1S
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-16
  • 訪  問  量:280

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域地礦,能源,建材/家具,電子/電池,鋼鐵/金屬

CY-MS500S-2TA1S雙靶磁控及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜儀可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實(shí)驗(yàn)室SEM(掃描電鏡)的樣品制備。

設(shè)備主要由不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶,蒸發(fā)鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺(tái),真空泵機(jī)組、真空測(cè)量規(guī)管,進(jìn)氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。

設(shè)計(jì)特色

1. 設(shè)備主機(jī)采用觸摸顯示屏操作,溫控表檢測(cè)。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動(dòng)化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺(tái)。

2. 真空室采用下置靶設(shè)計(jì),樣品臺(tái)具有加熱和旋轉(zhuǎn)但是功能,可以使鍍膜效果更加均勻。

3. 設(shè)備真空獲得系統(tǒng)采用兩級(jí)真空泵組,前級(jí)泵為大抽速機(jī)械泵,有效縮從常壓至低真空的時(shí)間,主泵為渦輪分子泵,抽速高,真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。

4. 真空腔體采用304不銹鋼制成,配有觀察窗口及擋板。造型美觀做工精細(xì),真空性能優(yōu)異。

5. 主要密封法蘭采用 CF系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封,真空性能優(yōu)良,能有效保證鍍膜質(zhì)量。

技術(shù)參數(shù):

磁控濺射頭

數(shù)量

2英寸 x2

冷卻方式

水冷

蒸發(fā)系統(tǒng)

蒸發(fā)源

鎢絲籃

*高溫度

1800



真空腔體

腔體尺寸

φ325mm X 600mm

觀察窗口

φ100mm

腔體材料

304不銹鋼

開啟方式

前開門式

真空系統(tǒng)

機(jī)械泵

旋片泵

抽氣接口

KF16

抽氣速率

1.1L/s

分子泵

渦輪分子泵

抽氣接口

CF150

抽氣速率

600L/s

排氣接口

KF40

真空測(cè)量

電阻規(guī)+電離規(guī)

極限真空

1.3x10-4Pa

供電電源

AC;220V 50/60Hz

電源配置

直流電源數(shù)量

1臺(tái)

輸出功率

1500W

輸出電壓

600W

響應(yīng)時(shí)間

5ms

射頻電源數(shù)量

1臺(tái)

輸出功率

1500W

功率穩(wěn)定度

5W

射頻功率

13.56MHz

射頻穩(wěn)定度

±0.005%

膜厚監(jiān)控系統(tǒng)

膜厚儀測(cè)量分辨率

±0.03Hz

測(cè)量精度

±0.5%

測(cè)量上限

50000

測(cè)量速度

100~1000ms

水冷系統(tǒng)

水箱容積

9L

流量

10L/min

供氣系統(tǒng)

流量計(jì)類型

質(zhì)量流量計(jì)

量程

200sccm

氣體類型

Ar

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

4kw(主機(jī)+真空泵)

整機(jī)尺寸

1000x950x1300mm

整機(jī)重量

295kg


樣式一:尺寸150mm,加熱溫度≤500℃ 控溫精度±1℃, 旋轉(zhuǎn)速度1-20r/min


樣式二:尺寸φ150mm,高度 上下70mm精準(zhǔn)可調(diào),旋轉(zhuǎn)速度1~20rpm,加熱溫度 0~500℃



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