簡(jiǎn)單介紹：

等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。儀器元件高度集成化，在同一個(gè)腔體內(nèi)即實(shí)現(xiàn)了兩種鍍膜功能；本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體，鍍膜過程可見。儀器標(biāo)配雙極旋片真空泵，能夠快速達(dá)到1.0E-3Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa，可滿足大多數(shù)蒸發(fā)鍍膜實(shí)驗(yàn)和二極濺射實(shí)驗(yàn)所需的真空環(huán)境。本儀器體積小，節(jié)省空間，能夠置于試驗(yàn)臺(tái)上使用，一機(jī)多用，性價(jià)比突出，非常適合各大高校及研究機(jī)構(gòu)選用。

詳情介紹：

等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀可在金屬表面鍍制各種功能薄膜，如在不銹鋼表面鍍制氮化鈦硬質(zhì)薄膜，以提高其表面硬度和耐磨性；在銅表面鍍制銀膜，可改善其導(dǎo)電性。

用于制備半導(dǎo)體薄膜，如硅薄膜、鍺薄膜等，是制造半導(dǎo)體器件如晶體管、集成電路等的重要工藝之一。還可通過鍍制不同的半導(dǎo)體薄膜來改變材料的電學(xué)性能，滿足不同器件的需求。

適用范圍：

掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導(dǎo)體材料試驗(yàn)電極的制作等。

技術(shù)參數(shù)：