1500℃半導體薄膜CVD氣相沉積系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時有過熱和斷偶保護功能。1500℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)爐管兩側法蘭配有數(shù)字式真空計和機械式壓力表，可以用來控制爐管內的氣氛環(huán)境。

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品牌	CYKY

1500℃半導體薄膜CVD氣相沉積系統(tǒng)管式爐采用高清真彩觸控屏操作，簡單易上手，即使是非專業(yè)人員經過簡單的培訓也可以熟練掌握儀器的使用方法，能夠極大的提高您的實驗效率。

爐管采用高純氧化鋁制成，爐體采用一體式設計，的設計能夠保證系統(tǒng)在1500℃運行穩(wěn)定**，加熱元件采用高品質硅碳棒，能夠達到1500℃高溫，若客戶有需求可以定制硅鉬棒加熱元件以達到更高的1700℃高溫。

系統(tǒng)所配有的三路浮子流量計，可以混合1~3路氣體，較為準確的配制出實驗所需的混合氣體；另有一壓力表安裝在浮子流量計正面，可以監(jiān)測氣體壓力及混合槽壓力。

適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、質量檢測等，尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環(huán)境的CVD實驗。

1500℃半導體薄膜CVD氣相沉積系統(tǒng)技術參數(shù)：

真空管式爐	產品型號	CY-CVD1500-60-300-3TH-Q
	爐管材質	高純氧化鋁
	爐管直徑	60mm(可選配50mm、80mm、100mm)
	爐管長度	1000mm
	爐膛長度	400mm
	加熱區(qū)長	300mm
	恒溫區(qū)長	150mm
	工作溫度	≤1450℃
	控溫精度	±1℃
	控溫模式	30段或50段程序控溫
	顯示模式	LCD
	密封方式	304不銹鋼真空法蘭
	法蘭接口	1/4英寸卡套接頭、KF16/25/40接頭
	可抽真空	4.4E-3Pa
	供電電源	AC:220V 50/60Hz
供氣系統(tǒng)	產品型號	CY-3F
	氣體通道	3通道
	測量部件	氣體浮子流量計
	測量量程	A通道：0～100ml/min H2氣	備注：如需其它量程或氣體種類，定貨時需要特別注明?？筛鶕?jù)客戶的具體要求來選配對應的氣體種類和量程的流量計。
		B通道：16～160ml/min N2氣
		C通道：25～250ml/min Ar氣
	測量精度	±2.0%
	管道耐壓	3MPa
	工作壓差	50～300KPa
	連接管道	304不銹鋼
	控制閥門	304不銹鋼針閥
	接口規(guī)格	進氣口和出氣口為1/4英寸卡套接頭
排氣系統(tǒng)	機械泵	旋片泵
	抽氣速率	1.1L/S
	排氣接口	KF16
	真空測量	電阻規(guī)
	極限真空	1.0E-1Pa
	供電電源	AC:220V 50/60Hz
	抽氣接口	KF16

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