產(chǎn)品中心
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產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
本設(shè)備為桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。本型號(hào)配備射頻電源,尤其適合非金屬或其他非導(dǎo)電材料鍍膜。
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備
UPS三靶磁控濺射鍍膜機(jī)是我公司自主研發(fā)的高性價(jià)比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標(biāo)準(zhǔn)化,模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜,導(dǎo)電膜,合金膜,半導(dǎo)體膜,陶瓷膜,介電膜,光學(xué)膜,氧化物膜,硬膜,PTFE膜等。 與同類設(shè)備相比,這種三靶磁控濺射鍍膜機(jī)不僅用途廣泛,而且具有體積小,操作簡便的優(yōu)點(diǎn),是實(shí)驗(yàn)室制備材料膜的理想設(shè)備。
磁控濺射真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設(shè)備里,既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜,同時(shí)又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其汽化再沉積在基材上成膜。增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機(jī)殼等塑料表面金屬化,應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種物理氣相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù),通過磁場增強(qiáng)離子化效率,從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積
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