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離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺直流電源，兩臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等

三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型）。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去除鋁靶表面的氧化層，十分適合鍍鋁等對空氣十分敏感的材料。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能*便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)。

本設(shè)備為桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備

本設(shè)備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備

本設(shè)備為桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于一般金屬薄膜的制備。設(shè)備同時(shí)配有偏壓電源，可以用來進(jìn)行進(jìn)行濺射前的等離子清洗和濺射過程中施加偏壓