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單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配500W-1000W不等的射頻電源。

單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W的直流電源。

小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇

真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。磁控濺射鍍膜系統(tǒng)廣泛應用于科研院所，實驗室制備單層或多層薄膜，以及新材料新工藝研究。

桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備

?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，尤其是實驗室SEM樣品制備，?雙靶直流磁控鍍膜儀采用旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。