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RTP快速退火爐柜式是一種用于半導(dǎo)體制造和材料處理的設(shè)備，RTP快速退火爐核心特點(diǎn)是快速升降溫和jingque溫控，RTP退火爐適用于短時(shí)高溫工藝。

晶圓RTP退火爐柜式是一種用于半導(dǎo)體制造和材料處理的設(shè)備，RTP快速退火爐核心特點(diǎn)是快速升降溫和jingque溫控，RTP退火爐適用于短時(shí)高溫工藝。

智能型滑動(dòng)式快速退火爐可搭配石英管、剛玉管使用，實(shí)現(xiàn)多種實(shí)驗(yàn)功能。如用于CVD法制備石墨烯；還可廣泛用于各種反應(yīng)溫度在25~1600℃左右的各種CVD實(shí)驗(yàn)、真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備等多個(gè)研究領(lǐng)域。

鹵素?zé)鬜TP退火爐是一款6寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)真正的基底溫度測(cè)量，不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補(bǔ)償，溫度控制**，溫度重復(fù)性高，客戶包括國(guó)際上許多半導(dǎo)體公司及科研團(tuán)隊(duì)，是半導(dǎo)體制程退火工藝的理想選擇

高真空RTP快速退火爐由我公司自主研發(fā)的功能*的加熱設(shè)備。該產(chǎn)品采用進(jìn)口紅外線加熱管加熱，造型新穎結(jié)構(gòu)合理，爐體和爐管可以自由滑動(dòng)，可實(shí)現(xiàn)快速升降溫

1200℃真空RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)真正的基底溫度測(cè)量，不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補(bǔ)償，溫度控制**，溫度重復(fù)性高，客戶包括國(guó)際上許多半導(dǎo)體公司及科研團(tuán)隊(duì)，是半導(dǎo)體制程退火工藝的理想選擇